對膠件表面不允許有頂針痕跡(如透明膠件)，且表面有較高要求的膠件，可利用膠件整個表面采用推塊頂出，如圖8.4.1所示。

8.4.1機構要點

推塊脫模要點：

(1)推塊應有較高的硬度和較小的表面粗糙度；選用材料應與呵鑲件有一定的硬度差(一般在HRC5度以上)；推塊需滲氮處理(除不銹鋼不宜滲氮外)。

(2)推塊與呵鑲件的配合間隙以不溢料為準，并要求滑動靈活；推塊滑動側面開設潤滑槽。

(3)推塊與呵鑲件配合側面應成錐面，不宜采用直身面配合。

(4)推塊錐面結構應滿足如圖8.4.2所示；頂出距(H1)大于膠件頂出高度，同時小于推塊高度的一半以上。

(5)推塊推出應保證穩定，對較大推塊須設置兩個以上的推桿。

8.4.2推塊機構示例

(1)膠件如圖8.4.3所示，推塊機構如圖8.4.4所示。此機構考慮推塊脫模面積大，頂力均勻特點，采用內、外推塊頂出，使脫模平衡。

(2)膠件如圖8.4.5所示，膠件要求不能有頂針痕跡；推塊機構如圖8.4.6所示。此機構應用鑲件推塊脫模，推塊痕跡均勻的特點。

(3)透明膠件不能有頂針痕跡，采用推塊機構脫模，如圖8.4.7所示。